2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[18p-N304-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月18日(水) 13:15 〜 17:30 N304 (N304)

吉川 洋史(埼玉大)、小幡 孝太郎(理研)、安國 良平(奈良先端大)

13:30 〜 13:45

[18p-N304-2] フェムト秒パルスレーザーによるAl薄膜の励起過程と原子間力変調の時間依存密度汎関数理論に基づく第一原理的研究

〇(PC)加藤 洋生1、宮本 良之1 (1.産総研CD-FMat)

キーワード:第一原理計算、時間依存密度汎関数法、レーザー加工

超短パルスレーザーを用いた材料加工は現在様々な領域で利用される一方で、励起後の物性の過渡的な変化は十分に理解されていない。本講演では9原子層のアルミニウムの薄膜のレーザー照射後の実時間発展を時間依存密度汎関数論(TDDFT)に基づきシミュレートした結果を報告する。照射後の原子間力の顕著な減衰と、その振る舞いがプラズモンのような電子系の集団励起状態から理解できる可能性について述べる。