2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[18p-PB5-1~36] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年9月18日(水) 16:00 〜 18:00 PB5 (第二体育館)

16:00 〜 18:00

[18p-PB5-17] ALD成長によるZnOの平坦薄膜成長条件の調査

山本 燎1、加納 寛人2、中村 篤志1、居波 渉1 (1.静岡大院、2.静岡大工)

キーワード:原子層堆積法、ZnO薄膜