2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[18p-PB5-1~36] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年9月18日(水) 16:00 〜 18:00 PB5 (第二体育館)

16:00 〜 18:00

[18p-PB5-29] MgO及びサファイア基板上へのエピタキシャルNiO薄膜の成長

西本 啓介1、加藤 匠秀1、金 冑男1,2、杉山 睦1,2 (1.東理大 理工、2.東理大 総研)

キーワード:酸化ニッケル、エピタキシャル、スパッタ