[18p-PB5-1~36] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[18p-PB5-6] ミストCVD法により作製されたα - (Al_x Ga_1-x)₂O₃薄膜の構造評価

〇(B)橋本 歩¹、仲林 裕司²、川江 健³、山田 悟¹ (1.石川高専、2.北陸先端大、3.金沢大学)

キーワード：酸化ガリウム、ミストCVD法