[19a-B31-1~5] 薄膜表面・界面評価法の新展開

[19a-B31-5] X 線分析によるガラス基板上金属酸化物極薄膜の構造

〇山本 哲也¹、北見 尚久^1,2、古林 寛¹、野本 淳一³ (1.高知工科大総研、2.住友重機械工業、3.産総研)

キーワード：金属酸化物薄膜、X 線反射率測定、膜密度

我々は基板への飛来陽イオンエネルギーが 100 eV 以下となる直流アーク放電を用いた反応性プラズマ蒸着法により，n 型ドーピングされた酸化亜鉛及び酸化インジウムの構造・電気・光学・機械特性についてそれらの特徴を議論，報告してきた。融点が比較的低い金属 Zn 及び典型的な低融点金属 In, Ga, Sn などの金属原子及びそれらの陽イオンを飛来粒子とするガラス基板上低温 (≦ 200 ℃) 成膜では密着特性や多結晶薄膜構造の設計的制御が課題である。本発表では前記２つの金属酸化物薄膜において膜厚 10 nm 以下での膜構造特性，特に密度にし，X 線反射率測定による解析結果に基づいて議論する。