[19a-B32-3~3] 8.7 プラズマエレクトロニクス分科内招待講演

[19a-B32-3] [8.プラズマエレクトロニクス　分科内招待講演] ドライエッチング技術の進展と今後の展望

〇野尻 一男¹ (1.ナノテクリサーチ)

キーワード：ドライエッチング、アトミックレイヤーエッチング、スマートファクトリー

本講演では，各種プラズマソースの開発から最先端のアトミックレイヤーエッチングに至るまでのドライエッチング技術の進展を振り返るとともに，Industry 4.0のSmart Factory対応も含めた今後の課題・展望について述べる。また日本の大学，研究機関，企業のあるべき姿についても言及する。