2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.6 超高速・高強度レーザー

[19a-E205-1~12] 3.6 超高速・高強度レーザー

2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:15 E205 (E205)

小栗 克弥(NTT)

11:00 〜 11:15

[19a-E205-8] 赤外フェムト秒プラズモニック増強場による化学反応制御(III)

〇(D)森近 一貴1、村田 慧1、櫻井 敦教1、石井 和之1、芦原 聡1 (1.東大生研)

キーワード:光解離、赤外超短パルス、プラズモニクス

中赤外フェムト秒パルスで分子振動を強励起することにより,化学結合の選択的な切断・生成が可能となる.我々は局在表面プラズモン励起に伴う電場増強効果に着目し,増強パルス電場を用いて液相分子を強励起することで,解離反応を誘起できることを前回報告した.今回我々は,多段階振動励起に伴う反射ポンプ・プローブ信号を定量的に理解するために数値計算を行い,さらには,解離生成物の帰属のための理論計算を行ったので,その結果を実験結果と合わせて報告する.