2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.1 新物質・新機能創成(作製・評価技術)

[19a-E216-1~12] 10.1 新物質・新機能創成(作製・評価技術)

2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:15 E216 (E216)

菅 大介(京大)、田中 雅章(名工大)

11:00 〜 11:15

[19a-E216-8] 窒素吸着Cu(001)面上のL10-FeNi原子層成長とその磁性

〇(D)川口 海周1、宮町 俊生1、高橋 優樹2、飯盛 拓嗣1、服部 卓磨1、小板谷 貴典3,4、小嗣 真人2、横山 利彦3,4、小森 文夫1 (1.東大物性研、2.東理大基礎工、3.分子研、4.総研大)

キーワード:窒素サーファクタント効果、L10型FeNi規則合金、薄膜

大きな垂直磁気異方性をもつL10型FeNi規則合金作製のため、本研究ではCu(001)面上で窒素サーファクタント効果を利用して高い規則度のFeNi合金薄膜を作製した。XPSとSTM、LEED測定から蒸着時基板温度およびアニール温度による構造変化について調べ、どのような条件で窒素サーファクタント効果が有効であるか確認し、さらにXMCD測定から磁気特性について調べた。総合して、窒素サーファクタント効果がL10型FeNi規則合金作製に有効であることを報告する。