2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19a-E304-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:00 E304 (E304)

米谷 玲皇(東大)、福島 誉史(東北大)

10:30 〜 10:45

[19a-E304-7] Au錘3軸MEMS加速度センサのためのSCD電極の検討 (2)

市川 崇志1、乙部 翔太1、渥美 賢1、古賀 達也1、山根 大輔1、飯田 慎一2、伊藤 浩之1、石原 昇1、町田 克之1、曽根 正人1、益 一哉1 (1.東京工業大学、2.NTT-AT)

キーワード:MEMS加速度センサ、積層メタル構造、高分解能

本論文は、単一Au錘3軸MEMS加速度センサのために新しく提案したSCD(segmented capacitance detection)方式によるデバイス構造の電極パラメータが感度に及ぼす影響について検討した結果を報告する。高分解能化を目的として提案したSCD方式は3軸電極構造の簡略化が容易であるという特徴があり、検討及び試作を行い、実現の見通しを得ている。今回、電極パラメータと加速度センサ性能についての解析式を導出し、構造パラメータと感度の関係を明らかにした。