[19a-E308-1~9] 17.3 層状物質

[19a-E308-9] スパッタMoS₂膜とTiSi₂膜の界面におけるFGアニールによるコンタクト抵抗低減

〇五十嵐 智¹、望月 祐輔¹、谷川 晴紀¹、濱田 昌也¹、松浦 賢太朗¹、角嶋 邦之¹、筒井 一生¹、若林 整¹ (1.東工大)

キーワード：MoS2、シリサイド、コンタクト