2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19a-E311-1~8] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年9月19日(木) 09:30 〜 11:45 E311 (E311)

奈良 安雄(兵庫県立大学)

09:30 〜 09:45

[19a-E311-1] 紫外レーザ照射によるYOxHyエピタキシャル薄膜の可逆的な絶縁体-金属転移

〇(M2)小松 遊矢1、清水 亮太1,2、西尾 和記1、宮内 雅浩1、ビルデ マーカス3、福谷 克之3、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ、3.東大生産研)

キーワード:フォトクロミズム、イットリウム酸水素化物、絶縁体-金属転移

イットリウム酸水素化物(YOxHy)は光照射により透過率・導電率変化するフォトクロミズムを示し、調光材料や光センサへの応用が期待されている。我々はエピタキシャル化により既存の光センサに匹敵する3桁の抵抗変化を報告したが、高強度・短波長光を用いた効率的なキャリア生成は未達成である。本研究ではYOxHyエピタキシャル薄膜に対し紫外レーザを照射したところ、可逆的な絶縁体-金属転移を見出したため報告する。