13:30 〜 14:00
[19p-B01-1] 次世代パワー半導体デバイス開発における材料学的課題
キーワード:パワー半導体、SiC、GaN
次世代パワー半導体材料として、市場拡大が期待される炭化シリコン(SiC)および窒化ガリウム(GaN)、更には次々世代材料として酸化ガリウム(Ga2O3)およびダイヤモンドが注目されている。本講演ではそれぞれの半導体材料、ウェハ、および電子デバイスと材料学的課題について言及する。
シンポジウム(口頭講演)
シンポジウム(technical) » パワーエレクトロニクスと薄膜・表面技術〜省エネルギー社会に向けて〜
13:30 〜 14:00
キーワード:パワー半導体、SiC、GaN