[19p-B11-1~8] 界面ナノ電子化学『多様化する半導体ウェットプロセス』

[19p-B11-6] DRAMにおける洗浄技術の開発課題

〇八木 秀明¹ (1.マイクロンメモリジャパンTD)

キーワード：DRAM、洗浄技術

DRAM開発においては、スケーリング要求に対応する各種プロセス技術の進展が、高集積化とともに高性能・低消費電力のDRAMを実現してきた。次世代DRAMの開発・製品化と歩留向上に向け、一層の微小異物対策や、高アスペクトで脆弱な構造に対する高度な洗浄・乾燥技術が必要とされる。本講演ではこれらの課題について概観する。