[19p-B31-1~8] New development of surface and interface evaluation methods for thin films

[19p-B31-3] Electronic Structure Analysis of Magnetic Semiconductor Thin Films Using Soft X-Ray Spectroscopy

〇Masaki Kobayashi^1,2 (1.EEIC, Univ. of Tokyo, 2.CSRN, Univ. of Tokyo)

Keywords:ferromagnetic semiconductor, photoemission spectroscopy, x-ray emission spectroscopy

近年、放射光技術の目覚ましい発展により、軟X線（光のエネルギー hn 100 eV–2 keV）を用いた分光による薄膜試料およびヘテロ構造の界面の電子状態解析が進展している。講演では、軟X線角度分解光電子分光および軟X線共鳴非弾性X線散乱を用いた、強磁性半導体薄膜の電子構造解析について述べる。