[19p-E301-1~5] 光が拓く量子技術の新展開

[19p-E301-5] ハイブリッド集積シリコン量子フォトニクスの可能性

〇太田 泰友^1,2、勝見 亮太³、長田 有登¹、玉田 晃均³、角田 雅弘¹、岩本 敏^1,3、荒川 泰彦¹ (1.東大ナノ量子、2.JSTさきがけ、3.東大先端研)

キーワード：シリコンフォトニクス、光ハイブリッド集積、量子光回路

我々は新しい集積技術として転写プリント法に着目し、多様な異種材料を自在に集積したハイブリッド集積シリコン量子フォトニクス回路の実現に向けた研究を進めている。ピックアンドプレース技術を基礎とする転写プリント法を用いることで、CMOS技術で作製したシリコン光回路をそのまま利用しつつハイブリッド量子光回路を実現することが可能となる。すでに我々は同手法を用いて、シリコンCMOS光回路上への化合物半導体量子ドット単一光子源 、量子ドット共振器電気力学系 やナノレーザ の集積に成功している。またプラズモニック単一光子源の作製に応用できることも示してきた 。講演では、同技術の可能性と今後の展開を議論することとしたい。