[19p-E304-1~13] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[19p-E304-1] Device Application of Minimal Micro-Plasma Etcher Equipment

〇Hiroyuki Tanaka^1,2, Kazuhiro Koga², Hisato Ogiso^1,2, Shizuka Nakano^1,2, Shunichiro Shimbori^2,3, Chikatsu Iwase^2,3, Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL, 3.SUNYOU)

Keywords:Micro Plasma, minimalfab, etching

マイクロプラズマは小型という点でミニマルファブに適しているが、ガス噴射部自体をプラズマ化するためガス乱流による不安定さの課題があった。ミニマルファブではウェハステージをスキャンすることでその本質的問題を克服してきた。しかし、これまでデバイスへの応用については報告してこなかった。今回は既に半導体デバイスプロセスとして実用となっているマイクロプラズマについて、その集積回路プロセス応用事例を報告する。