[19p-E304-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19p-E304-13] 局所クリーン化ミニマル環境コントロールシステム-PLAD (Ⅳ)

〇谷島 孝^1,2、三浦 典子²、安井 政治^1,2、クンプアン ソマワン^1,2、前川 仁^1,2、原 史朗^1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構)

キーワード：ミニマルファブ

ミニマルファブの前室システムであるPLADのクリーン化とガス遮断を行う、差圧制御・気体循環システムを開発してきた。このシステムをミニマル集光加熱炉に搭載し、窒素環境下でシリコンウエハを高温加熱した時の、ウエハ上に形成される酸化膜厚を評価した。その結果、PLADの窒素環境コントロールシステムを集光加熱炉に適用した場合は、現状の達成残留酸素濃度でほぼ十分であることが分った。