The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[19p-E310-1~20] 15.4 III-V-group nitride crystals

Thu. Sep 19, 2019 1:15 PM - 7:00 PM E310 (E310)

Tsutomu Araki(Ritsumeikan Univ.), Ryuji Katayama(Osaka Univ.), Ryota Ishii(Kyoto Univ.)

5:30 PM - 5:45 PM

[19p-E310-15] Design of Deep Ultraviolet Second Harmonic Generation Device with Double -layer Layer Polarity Inverted AlN Waveguide

Asahi Yamauchi1, Tenta Komatsu1, Kazuhisa Ikeda1, Kenjiro Uesugi2, Kanako shojiki2, Hideto Miyake2, Toshiki Hikosaka3, Shinya Nunoue3, Takaya Morikawa1, Yasufumi Fujiwara1, Masahiro Uemukai1, Tomoyuki Tanikawa1, Ryuji Katayama1 (1.Osaka Univ., 2.Mie Univ., 3.Toshiba Corp.)

Keywords:nonlinear optical device

我々は新規構造デバイスとして、AlNの極性を反転して3層積層した横型擬似位相整合( QPM) 構造を有する導波路第二高調波発生( SHG) デバイスを提案してきた。また本研究室では作製が容易な波長400 nm帯2層極性反転積層AlN導波路SHGデバイスを作製し、青色SHGの評価の実証に成功した。本研究では、現時点で作製可能な深紫外光発生2層極性反転積層AlN導波路SHGデバイスの設計を行ったので報告する。