2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-E310-1~20] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年9月19日(木) 13:15 〜 19:00 E310 (E310)

荒木 努(立命館大)、片山 竜二(阪大)、石井 良太(京大)

17:45 〜 18:00

[19p-E310-16] Ⅳ族結晶配向層を用いたガラス基板上への窒化物半導体成長

小林 篤1、中野 はるか1、上野 耕平1、藤岡 洋1,2 (1.東大生研、2.JST-ACCEL)

キーワード:窒化物半導体、スパッタリング