2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[19p-E312-1~13] 6.2 カーボン系薄膜

2019年9月19日(木) 13:30 〜 17:15 E312 (E312)

藤原 正澄(大阪市立大)、水落 憲和(京大)

14:00 〜 14:15

[19p-E312-3] 窒素終端(111)ダイヤモンドを用いて作製した高配向2次元NVアンサンブル

〇(B)金久 京太郎1、立石 哲也1、薗田 隆弘1、Buendia Jorge1、蔭浦 泰資1,5、川勝 一斗1、畑 雄貴1、永岡 希朗1、石井 邑1、谷井 孝至1、小野田 忍2、春山 盛善3、Stacey Alastair4、寺地 徳之5、磯谷 順一6、河野 省三7、川原田 洋1,7 (1.早大、2.量研、3.産総研、4.メルボルン大、5.NIMS、6.筑波大、7.材研)

キーワード:NVセンタ、窒素終端、ダイヤモンド

NVセンタを用いた磁気センサの磁場感度向上のためには、高配向なNVアンサンブルの作製が望ましい。そこで、今回我々は窒素ラジカル暴露法を用いて超高純度(111)ダイヤモンド上に窒素終端を形成し、その後、CVD法を用いて高純度ダイヤモンド膜を追成長した。追成長前後のPLマッピング比較から、NVアンサンブルが生成しており、また、ODMR測定により、作製したNVアンサンブルが配向していることを確認した。