2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.1 X線技術

[19p-E318-1~10] 7.1 X線技術

2019年9月19日(木) 13:30 〜 16:30 E318 (E318)

豊田 光紀(東京工芸大)、津留 俊英(山形大)

14:30 〜 14:45

[19p-E318-5] 九州シンクロトロン光研究センター(SAGA Light Source)におけるEUV専用ビームライン(BL18)の再整備とPMMAレジストのテスト露光

米山 明男1、河田 眞太郎1,2 (1.九州シンクロトロン光研究センター、2.東京工業大学)

キーワード:EUV、PMMA

EUV用レジストの露光評価や、各種光学素子(ミラー)の反射率評価に資するEUV専用ビームライン(BL18)を県有施設として九州シンクロトロン光研究センターに再整備し、PMMAレジストを対象としたテスト露光を行った。PMMAレジスト(厚さ200 nm)をテスト露光した結果、露光時間は40秒で底部まで露光することができた。