[19p-E318-1~10] 7.1 X-ray technologies

△ [19p-E318-9] Elucidation of deterioration mechanism in protective film of collector mirror for EUV light source

〇Yoshiyuki Honda¹, Tatsuya Yanagida¹, Yutaka Shiraishi¹, Masayuki Morita¹, Masahiko Andou¹, Hiroaki Tomuro¹, Akifumi Matsuda², Mamoru Yoshimoto² (1.Gigaphoton Inc., 2.Tokyo Tech.)

Keywords:EUV light source

LPP方式のEUV光源実用化の課題の一つとして、Mo/Si多層膜反射集光鏡表面における保護膜の劣化がある。本報告では、保護膜劣化メカニズムの解明を目的に、コレクターミラーの表面状態を模擬したサンプルを製作し、保護膜とSnデブリの反応性評価を行った。プラズマより飛散し、Si層界面付近にまで侵入したSnデブリが集まり結晶成長する際に、保護膜に粗密が生じることで、保護膜が劣化するものと考えられる。