2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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[19p-N302-1~9] 新しいスピントロニクス材料と物性

2019年9月19日(木) 13:30 〜 17:45 N302 (N302)

揖場 聡(産総研)、小野 輝男(京大)

17:15 〜 17:45

[19p-N302-9] BiSbトポロジカル絶縁体を用いる超高性能純スピン流源

ファム ナムハイ1,2,3、ゲィン フンユィカン1、白倉 孝典1、八尾 健一郎1 (1.東工大、2.東大CSRN、3.JST-CREST)

キーワード:トポロジカル絶縁体、スピンホール効果、SOT-MRAM

近年トポロジカル絶縁体における巨大なスピンホール効果が報告されている。これらの材料では1を超えるスピンホール角が示されており純スピン注入源として用いることでスピン軌道トルク磁気抵抗メモリ(SOT-MRAM)における低電流かつ高速な磁化反転技術が期待できる。本研究では、キャリア移動度が高いかつ表面状態が多いBi1-xSbx合金を用いることで高い電気伝導率と巨大なスピンホール角が両立できることを実証した。当日に、BiSbを用いる超高性能純スピン注入源の実用化に向けた我々の取り込みについて紹介する。