[19p-PB2-1~7] 13.5 Semiconductor devices/ Interconnect/ Integration technologies

[19p-PB2-6] Influence of polyalcohol in developer on novolac type positive-tone resist solubility.

〇Syunpei Kajita¹, Koichi Fukunaga¹, Hideo Horibe² (1.Sakamoto Co.,Ltd., 2.Osaka-City Univ.)

Keywords:Photo resist, Solubility, Development process

半導体フォトレジストの現像工程における課題として、未露光部の溶解に伴う解像度の低下やパターン倒壊が挙げられる。これに対し、多価アルコールを添加することで、レジストの溶解性を制御し、レジストの寸法安定性を向上させると考えられているが、その作用機序について詳細な言及はなされていない。本研究では、現像液に多価アルコールを添加した際の感度曲線を作成し、レジスト作製への影響について考察した。