The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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Oral presentation

Joint Session K » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[20a-B31-1~12] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Fri. Sep 20, 2019 9:00 AM - 12:15 PM B31 (B31)

Yukiharu Uraoka(NAIST), Keisuke Ide(Tokyo Tech)

11:00 AM - 11:15 AM

[20a-B31-8] Reliability of oxide thin-film transistor toward sensor application

Yuki Hashima1, Takanori Takahashi1, Yasuaki Ishikawa1, Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST)

Keywords:amorphous oxide semiconductor, chemosensor

延長ゲート型構造を有するTFTはこれまでにセンサへの応用を目指した開発が行われている。本研究では実社会への応用を考え、高い信頼性を有する非晶質酸化物半導体材料(AOS)に注目した。AOSは移動度が容易に10 cm2/Vs 以上得られる為、デバイスの高集積化によるセンサアレイへの応用が容易である。本研究では延長ゲート上の電荷状態変化によるAOS-TFTの信頼性を評価しセンサ応用への適応を試みる。