[20a-C309-1~13] 6.1 強誘電体薄膜

△ [20a-C309-11] BiFe_0.9Co_0.1O₃薄膜のストライプ型強誘電・強磁性ドメインの面内電場印加による構造変化

〇勝俣 真綸¹、清水 陽樹¹、清水 啓佑²、重松 圭¹、東 正樹¹ (1.東工学フロ材研、2.東工大科創院)

キーワード：マルチフェロイック、BiFeO3、PFM, MFM

BiFe_0.9Co_0.1O₃薄膜は室温強磁性強誘電体であり、電場印加磁化反転が期待される。我々はこれまで、BiFe_0.9Co_0.1O₃/GdScO₃(110)_Oの4種類の面内分極のうち、2種類がストライプ構造を作っている局所的な領域において、電場印加磁化反転が起こることを確認してきた。本研究では、広範な領域にストライプ構造を保持した状態で、複数回に及ぶ電場印加磁化反転を検出するため、BiFe_0.9Co_0.1O₃薄膜上にギャップ状のPt上部電極を作製し、面内電場印加による強誘電・強磁性ドメインの構造変化を試みた。