2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[20a-C310-1~12] 6.4 薄膜新材料

2019年9月20日(金) 09:00 〜 12:15 C310 (C310)

村岡 祐治(岡山大)、岩田 展幸(日大)

09:00 〜 09:15

[20a-C310-1] 複合成膜により成膜された超低屈折率SiO₂ 光学薄膜の応力特性2

吉澤 慶1、呂 翔宇1、室谷 裕志1 (1.東海大院工)

キーワード:複合成膜、SiO₂、内部応力