[20a-C310-1~12] 6.4 薄膜新材料

[20a-C310-6] 水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化タンタル薄膜の作製

〇伊藤 勇佑¹、阿部 良夫¹、川村 みどり¹、金 敬鎬¹、木場 隆之¹ (1.北見工大)

キーワード：高速成膜、反応性スパッタリング、プラズマ発光スペクトル

反応ガスに水蒸気を用いた酸化タンタル薄膜の高速成膜が実現した原因を明らかにするため、ターゲット状態の検討を行った。プラズマ発光スペクトルの測定より、金属ターゲットモードを維持した状態で、酸化タンタル薄膜が形成されている事が明らかになった。この結果は、チャンバー内の液体窒素タンクが、余剰な水蒸気を吸着除去するため、金属ターゲットモードを維持出来たためと考えられる。