[20a-E203-1~12] 7.5 イオンビーム一般

[20a-E203-1] スパッタリング収率の結晶方位依存性とチャネリングの影響

〇(M2)山本 修平¹、長崎 正雅¹、吉野 正人¹、山田 智明¹ (1.名大工)

キーワード：スパッタリング、純金属、イオンビーム

金属多結晶を用いたスパッタリングの実験と標的内部でのイオンの挙動に関する計算を行った。結果より、スパッタリング収率は表面付近で停止したイオンの割合と対応しており、スパッタリング収率と非チャネリング確率は対応していた。ただし、表面付近で原子をはじき出した後にチャネリングを起こしたイオンも存在するため、定量的な議論を行うためにはこのようなイオンの扱いに注意する必要があることがわかった。