2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.5 イオンビーム一般

[20a-E203-1~12] 7.5 イオンビーム一般

2019年9月20日(金) 09:00 〜 12:15 E203 (E203)

柳沢 淳一(滋賀県立大)、二宮 啓(山梨大)

09:30 〜 09:45

[20a-E203-3] CVDグラフェン上のRFスパッタc軸配向ScAlN薄膜の圧電特性

〇(M1)天野 凌輔1,2、柳谷 隆彦1,2,3 (1.早大先進理工、2.材研、3.JSTさきがけ)

キーワード:圧電薄膜、グラフェン、スパッタリング

移動体通信機器での利用周波数の密集化,高帯域化に伴い,急峻性の高い周波数フィルタの重要性が増している.現在のFBARフィルタには多結晶薄膜が用いられているが,単結晶薄膜を使用することで機械的Q値の向上が期待される.本研究では,単結晶FBAR フィルタの作製方法を検討した.グラフェン上にScAlN 薄膜を作製し,その特性を確認した.さらに圧電薄膜の剥離を試み,グラフェン上圧電薄膜の転写可能性を検討した.