[20a-E306-1~12] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

[20a-E306-11] 質量分離有機金属分子イオンビーム堆積法のストイキオメトリ成膜への応用

〇吉村 智¹、杉本 敏司¹、竹内 孝江²、村井 健介³、木内 正人³ (1.阪大工、2.奈良女大、3.産総研)

キーワード：炭化ケイ素、酸化ケイ素、イオンビーム

炭化ケイ素、酸化ケイ素、窒化ケイ素などの成膜においては、シランを主原料として用いる。シランは危険なため、安全に扱える液体原料、例えばヘキサメチルジシランを用いた実験が行われている。本研究では、これらを原料として用いて低エネルギーイオンビームを生成し、これをシリコン基板に照射することにより成膜を行った。特に、ストイキオメトリ条件を満たしたイオンを照射した場合と満たさない場合の成膜結果の比較を行った。