2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[20p-C207-1~16] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2019年9月20日(金) 13:15 〜 17:45 C207 (C207)

尾崎 壽紀(関西学院大)、舩木 修平(島根大)、元木 貴則(青学大)

13:45 〜 14:00

[20p-C207-3] Seed層を用いたBMO添加REBCO膜におけるBMOナノロッド成長のシミュレーション

一野 祐亮1、土屋 雄司1、吉田 隆1 (1.名大院工)

キーワード:薄膜、結晶成長、シミュレーション

我々はこれまで、低温成膜法やREGREB法を開発してきた。これらの手法では、高品質なREBCO膜をseed層にし、その上に低温、あるいは高速でREBCO薄膜を作製することでBMOの自己組織化を制御できる。本研究では、上記のような成膜法において、seed層やupper層の成膜条件がBMOの自己組織化に与える影響について薄膜成長シミュレーションを用いて検討した。