2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[20p-C207-1~16] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2019年9月20日(金) 13:15 〜 17:45 C207 (C207)

尾崎 壽紀(関西学院大)、舩木 修平(島根大)、元木 貴則(青学大)

14:30 〜 14:45

[20p-C207-6] 後熱処理により積層欠陥を導入したY123薄膜の超伝導特性

権藤 紳吉1、元木 貴則1、中村 新一2、本田 元気3、永石 竜起3、下山 淳一1 (1.青学大理工、2.TEP、3.住友電工)

キーワード:超伝導、積層欠陥、薄膜

水蒸気を含んだ雰囲気下で熱処理することでRE123中に積層欠陥が生成することや生成した積層欠陥が還元熱処理することで消滅することを明らかにしてきた。我々はフッ素フリーMOD法Y123薄膜に対しての後熱処理による積層欠陥の生成・消滅機構と超伝導特性に与える効果の解明を目指している。我々の最近の研究で水蒸気分圧を高くすることで積層欠陥の生成が促進することが分かった。