2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[20p-C310-1~16] 6.4 薄膜新材料

2019年9月20日(金) 13:45 〜 18:00 C310 (C310)

土屋 哲男(産総研)、石橋 隆幸(長岡技科大)

16:15 〜 16:30

[20p-C310-10] 異なるガス種で成膜した高安定銀薄膜の特性比較

濱野 剛志1、工藤 映太1、川村 みどり1、木場 隆之1、阿部 良夫1、金 敬鎬1、室谷 裕志2 (1.北見工大、2.東海大)

キーワード:銀薄膜、スパッタガス、電気抵抗率

スパッタリング法においてターゲット原子とガス原子の質量数が近い方が良質な膜ができることが知られている。そこで本研究ではArとKrガスを用いて膜厚150 nmのAg膜及びAl表面層1, 3 nmを積層したAl/Ag膜を作製し、特性の比較を行った。ArとKrガスで作製した各膜を比較すると、Krガスの膜の方がより低い電気抵抗率と大きい結晶子径を示した。またガス種を問わずAg膜及びAl 1 nm積層Ag膜の波長500 nmでの反射スペクトルが約97 %を示した。