[20p-C310-1~16] 6.4 薄膜新材料

△ [20p-C310-6] コ・スパッタリングによるMgをドープしたIrO₂薄膜のエレクトロクロミック特性

〇須賀 結奈¹、柏木 誠¹、賈 軍軍²、中村 新一³、重里 有三¹ (1.青学大理工、2.早大国際理工学C、3.青学大理工分析C)

キーワード：酸化イリジウム、エレクトロクロミズム、コ・スパッタリング

酸化イリジウム (IrO₂) は、電気化学的な酸化反応により着色するエレクトロクロミック (EC)材料として知られている。しかし、消色時の透過率や着色効率が低いこと、Irが高価である等の課題がある。そこで、本研究では、Ir量を減らすため、MgをドープしたIrO₂薄膜を作製し、そのEC特性について解析した。また、同じ酸化発色型EC材料であるMgドープNiO薄膜との比較を行った。MgをドープしたIrO2薄膜は、Ir/(Ir+Mg)=20at%前後で着色効率などの特性が最も向上した。