2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[20p-C310-1~16] 6.4 薄膜新材料

2019年9月20日(金) 13:45 〜 18:00 C310 (C310)

土屋 哲男(産総研)、石橋 隆幸(長岡技科大)

15:15 〜 15:30

[20p-C310-7] パルスレーザ堆積法によるHfH2+x薄膜の直接合成

〇(M1)林 遼一郎1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工、2.元素戦略)

キーワード:ハフニウム水素化物、PLD、薄膜

金属水素化物は,水素組成の変化に伴う光学特性の変調やヒドリドイオン伝導の観点から注目を集めてきた.しかしながら,金属水素化物の物性の多くはバルク体で研究されており,薄膜の合成や物性に関する報告例は少ない.IV族金属の水素化物HfH2は,バルク体の報告も数例のみで,薄膜にいたってはPdで被覆したHf薄膜の水素化に関する報告しかない.今回我々は,PLDを用いたHfH2薄膜の直接合成に成功したので報告する.