The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[20p-C310-1~16] 6.4 Thin films and New materials

Fri. Sep 20, 2019 1:45 PM - 6:00 PM C310 (C310)

Tetsuo Tsuchiya(AIST), Takayuki Ishibashi(Nagaoka Univ. of Tech.)

3:30 PM - 3:45 PM

[20p-C310-8] Flux-Mediated Epitaxy deposition of La0.7Sr0.3MnO3 thin films

〇(M1)Koji Mizufune1, Shingo Maruyama1, Hiroshi Naganuma1, Yuji Matsumoto1 (1.Tohoku Univ.)

Keywords:flux-mediated epitaxy, LSMO thin film

ペロブスカイト構造を示す La0.7Sr0.3MnO3(LSMO)は,室温で強磁性を示し, 巨大磁気抵抗効果を有する ハーフメタル材料として,スピントロニクスデバイスへの応用が期待される.私たちは,フラックス液相膜を介した PLD合成法により,高品質な薄膜作製を可能にするフラックスエピタキシー (FME)法 を開発してきた.そこで本公演では, FME法による LSMO薄膜の作製を試み,その構造特性および磁気物性を調査した内容を報告する.