2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[20p-C310-1~16] 6.4 薄膜新材料

2019年9月20日(金) 13:45 〜 18:00 C310 (C310)

土屋 哲男(産総研)、石橋 隆幸(長岡技科大)

15:30 〜 15:45

[20p-C310-8] フラックスエピタキシー法による La0.7Sr0.3MnO3薄膜の作製

〇(M1)水船 皓司1、丸山 伸伍1、永沼 博1、松本 祐司1 (1.東北大院工)

キーワード:フラックスエピタキシー、LSMO薄膜

ペロブスカイト構造を示す La0.7Sr0.3MnO3(LSMO)は,室温で強磁性を示し, 巨大磁気抵抗効果を有する ハーフメタル材料として,スピントロニクスデバイスへの応用が期待される.私たちは,フラックス液相膜を介した PLD合成法により,高品質な薄膜作製を可能にするフラックスエピタキシー (FME)法 を開発してきた.そこで本公演では, FME法による LSMO薄膜の作製を試み,その構造特性および磁気物性を調査した内容を報告する.