[20p-E203-7~19] 3.5 Laser system and materials

[20p-E203-14] Development of high peak power hybrid ArF excimer laser

〇Hironori Igarashi¹, Yuuki Tamaru¹, Chen Qu¹, Yasuhiro Kamba¹, Atsushi Fuchimukai¹, Yoshihiko Miura¹, Taisuke Miura¹, Junichi Fujimoto¹, Hakaru Mizoguchi¹ (1.Gigaphoton Inc.)

Keywords:Excimer laser, frequency conversion, Deep Ultra Violet (DUV)

シード光として固体レーザを利用した、ハイブリッドArFエキシマレーザの開発を行っている。ハイブリッドArFレーザは、高フォトンエネルギー、高空間コヒーレンス、高パルスエネルギーという特徴をもつことから、超微細加工や難加工材料の加工などの応用にむけて有望な光源である。固体シード光を短パルス化することで、最大ピークパワー7MW以上のハイブリッドArFエキシマレーザ光源を開発したので報告する。