[20p-E203-7~19] 3.5 レーザー装置・材料

[20p-E203-18] 高パルスエネルギーアクティブミラー増幅システムの開発I

〇荻野 純平¹、時田 茂樹¹、Li Zhaoyang¹、山口 尚弘¹、北島 将太朗¹、本越 伸二²、森尾 登¹、椿本 孝治¹、吉田 英次¹、藤岡 加奈¹、河仲 準二¹、植田 憲一^1,3、兒玉 了祐¹ (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研、3.電通大レーザー研)

キーワード：半導体励起レーザー、アクティブミラー、低温冷却Yb:YAGセラミック

100J、100Hz の高エネルギー、高繰り返しの低温冷却アクティブミラーレーザーシステムを開発している。このシステムは、0.5J 出力のフロントエンドと 10J および100J メインアンプのから構成される。現在、10J の増幅システムを構築している。本公演では、その開発状況を報告する。