2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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コードシェアセッション » 【CS.2】 3.5 レーザー装置・材料と3.14 光制御デバイス・光ファイバーのコードシェアセッション

[20p-E203-1~6] 【CS.2】 3.5 レーザー装置・材料と3.14 光制御デバイス・光ファイバーのコードシェアセッション

2019年9月20日(金) 13:45 〜 15:15 E203 (E203)

松下 智紀(東大)

15:00 〜 15:15

[20p-E203-6] CsLiB6O10の水不純物低減過程における紫外光誘起劣化耐性の変化

五十川 諒介1、村井 良多2、高橋 義典2、今西 正幸1、吉村 政志2,3、森 勇介1,3 (1.阪大院工、2.阪大レーザー研、3.創晶超光)

キーワード:非線形光学、ホウ酸系結晶、深紫外レーザー

非線形光学結晶CsLiB6O10(CLBO)は深紫外領域での波長変換素子として実用化しているが、高出力時に生じる出力の経時低下やビームパターンの変形等が課題となっている。本研究では、水不純物低減による紫外光経時劣化耐性の向上について詳細な調査を行った。その結果、乾燥雰囲気下でCLBO素子を150℃に加熱して評価すると短時間で大幅に耐性が向上する事が分かった。今後はこの経時変化を説明するモデルを考察していきたい。