[20p-E204-1~11] 3.13 Semiconductor optical devices

△ [20p-E204-4] Design of 3D controlled resistance and absorption for high-efficiency VCSEL by proton implantation

〇Hayato Sakamoto¹, Tomoyuki Miyamoto¹ (1.FIRST, Tokyo Tech)

Keywords:VCSEL, proton implantation, OWPT

光無線給電の給電効率改善には，光源高効率化が必要である．高効率化のため,3次元的構造制御による効率改善の可能性からプロトン注入型VCSELを提案する.プロトン注入のキャリア不活化を3次元的に制御し，電気抵抗・光吸収それぞれの優位領域に合わせてキャリア濃度形成して高効率化を目指している．今回，VCSEL内の3次元的キャリア濃度変化による電気抵抗と光吸収を数値解析し，必要な構造探索を行った．