[20p-E303-1~14] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[20p-E303-3] 二元同時スパッタ法で作製したAeSi₂膜の作製

〇青山 航大¹、清水 荘雄¹、倉持 豪人²、召田 雅実²、秋池 良²、井手 啓介¹、片瀬 貴義¹、神谷 利夫¹、木村 好里¹、舟窪 浩¹ (1.東京工業大学、2.東ソー株式会社アドバンスマテリアル研究所)

キーワード：シリサイド、薄膜