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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[20p-E303-1~14] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2019年9月20日(金) 13:45 〜 17:45 E303 (E303)

鵜殿治彦(茨城大)、寺井慶和(九工大)、原康祐(山梨大)

14:30 〜 14:45

[20p-E303-4] スパッタリングを用いたAlScN膜の形成

〇蔡松霖¹、草深一樹¹、星井拓也¹、若林整¹、筒井一生²、角嶋邦之¹ (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創成研究院)

キーワード：AlScN膜