2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[20p-E304-1~13] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2019年9月20日(金) 13:45 〜 17:15 E304 (E304)

篠崎 健二(産総研)、後藤 民浩(群馬大)、中岡 俊裕(上智大)

13:45 〜 14:00

[20p-E304-1] 化学強化ガラスにおける残留応力と短距離構造の関係

寺門 信明1、佐々木 隆成1、江袋 信悟1、高橋 儀宏1、藤原 巧1、折原 秀治2、折原 芳男2 (1.東北大院工、2.(有)折原製作所)

キーワード:化学強化ガラス

一般に,化学強化ガラスの品質は破壊試験や光弾性を利用した表面応力計によって評価され,mm–cmスケールの巨視的な機械特性を反映する.一方で,化学強化プロセスやその応用範囲の多様化に応えるために,µmスケールの分解能でかつ原子構造を反映する評価手法が求められている.この実現のために我々は、顕微ラマン分光と”Stuffing effect”に基づく残留応力の新しい評価手法を提案しその有用性を示した.本報告では,ラマンスペクトルからT–O–T結合に関する短距離構造の情報を導き,残留圧縮応力との関連を調査する.