2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[20p-E310-1~21] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年9月20日(金) 13:15 〜 19:00 E310 (E310)

岡田 成仁(山口大)、本田 善央(名大)、谷川 智之(阪大)

17:45 〜 18:00

[20p-E310-17] Vピット形成層がInGaN/GaN MQWに与える影響

河村 澪1、猪股 祐貴1、岩崎 直矢2、藤井 智也2、岡田 成仁1、倉井 聡1、山田 洋一1、只友 一行1 (1.山口大学大学院、2.山口大学)

キーワード:MT-GaN

超格子構造で発生するVピットの影響を明確にするために、InGaN/GaN超格子、及び超格子構造を使わずにVピットを形成させるために中温成長させたGaN(MT-GaN)を用い、InGaN/GaN超格子が光学的特性に与える要素技術の検討を行ってきた。本報告では、更にVピットを形成させる事のできる超格子、MT-GaNを様々な条件のもとで作製し、MQWに与える影響を調査したので報告する。