The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

[20p-E311-1~17] 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

Fri. Sep 20, 2019 1:30 PM - 6:15 PM E311 (E311)

Hiroshi Yano(Univ. of Tsukuba), Yasunori Tanaka(AIST)

5:45 PM - 6:00 PM

[20p-E311-16] The effect of annealing temperature for ODMR signals of silicon vacancy in SiC crystal

〇(M2)Yoji Chiba1,2, Yuichi Yamazaki2, Takahiro Makino2, Shin-ichiro Sato2, Naoto Yamada2, Takahiro Satoh2, Yasuto Hijikata1, Takeshi Ohshima2 (1.Saitama Univ., 2.QST)

Keywords:silicon carbide, silicon vacancy, optically detected magnetic resonance

炭化ケイ素(VSi)半導体中のシリコン空孔(VSi)は室温において局所的な磁場や温度を検出する量子センサへの応用が期待されている。本研究では、量子センシング上の基本操作となる光検出磁気共鳴(ODMR)測定の感度を高めるために、VSi形成後に行う熱処理の温度がVSiの発光及びODMR信号にもたらす影響を調べた。