2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[20p-E312-1~14] 6.2 カーボン系薄膜

2019年9月20日(金) 13:30 〜 17:30 E312 (E312)

山田 貴壽(産総研)、吉武 剛(九大)

16:15 〜 16:30

[20p-E312-10] 熱フィラメントCVD法による(111)面上へのリンドープn型ダイヤモンド膜の成長

片宗 優貴1、森 大地1、有川 大輔1、和泉 亮1、嶋岡 毅紘2、市川 公善2、小泉 聡2 (1.九州工大、2.物材機構)

キーワード:n型ダイヤモンド、リンドーピング、熱フィラメントCVD

熱フィラメントCVD法によりダイヤモンド(111)面上へのリンドープダイヤモンド膜の結晶成長を行い,Hall効果測定によりn型半導体特性を評価したので報告する.