[20p-E313-1~17] 1.5 Instrumentation, measurement and Metrology

[20p-E313-6] Analysis and structural optimization of capacitance manometer for semiconductor manufacturing by direct simulation Monte Carlo method

〇Takuya Ishihara¹, Masaru Soeda¹, Masashi Sekine¹, Yusuke Niimura¹ (1.Azbil Corp.)

Keywords:semiconductor manufacturing process, capacitance manometer, direct simulation Monte Carlo method

最新の半導体製造プロセスに対応する為、圧力計測に使用される真空計の内部の構造をモンテカルロ直接法を用いた3次元希薄流体シミュレーションで解析し最適化を行ったのでそれについて報告する。