2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

9 応用物性 » 9.3 ナノエレクトロニクス

[20p-E317-1~9] 9.3 ナノエレクトロニクス

2019年9月20日(金) 13:30 〜 16:00 E317 (E317)

内藤 泰久(産総研)、大矢 剛嗣(横国大)

14:00 〜 14:15

[20p-E317-3] Ptナノギャップメモリ素子の超高温環境下における劣化現象の解明

乙津 和希1,3、菅 洋志1、塚越 一仁2、内藤 泰久3 (1.千葉工大、2.物材機構、3.産総研)

キーワード:ナノギャップ

ナノスケールの間隙を備えた金属電極(以下,ナノギャップ電極)は, 高温環境下で動作する素子への応用が期待されている.過去の我々の研究では,接着層にTiを用いたPtナノギャップ電極を用いることで873 Kまでの高温動作を確認した. しかし,873 K以上の超高温領域での動作は未確認であった.そこで本研究では、この超高温領域でのメモリ保持特性について評価した.